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脈沖能量和散焦量對SiC陶瓷飛秒激光拋光機(jī)理和表面特性的影響

供稿人:許學(xué)博、張航 供稿單位:西安交通大學(xué)機(jī)械制造系統(tǒng)工程國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室  發(fā)布日期:2023-07-25

碳化硅陶瓷是一種典型的難加工硬脆材料,在許多領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用,由于通過燒結(jié)技術(shù)制備的SiC陶瓷的表面質(zhì)量較差,并且SiC陶瓷是具有高硬度和脆性的硬脆材料,因此通過傳統(tǒng)的加工方法很難獲得高精度的SiC陶瓷表面,這限制了SiC陶瓷在精密制造領(lǐng)域的應(yīng)用。隨著激光拋光技術(shù)的發(fā)展,作為一種新的表面加工技術(shù),利用飛秒激光拋光已成為硬脆材料精密加工的重要方法。

相關(guān)研究人員采用紅外飛秒激光對SiC陶瓷進(jìn)行燒蝕和拋光,計(jì)算了SiC陶瓷的激光燒蝕閾值,研究了脈沖能量和離焦量對SiC陶瓷表面形貌、表面粗糙度、拋光深度和飛秒激光拋光氧化程度的影響。

使用紅外飛秒激光加工系統(tǒng)對SiC陶瓷的燒蝕和拋光進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)研究。紅外飛秒激光加工系統(tǒng)示意圖如圖1所示。激光加工系統(tǒng)主要由飛秒激光器、高速掃描檢流計(jì)系統(tǒng)、五軸精密運(yùn)動系統(tǒng)、光路系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。在實(shí)驗(yàn)中,使用激光掃描共焦顯微鏡和掃描電子顯微鏡觀察SiC陶瓷加工前后的表面形貌,通過VK分析軟件測量表面粗糙度和拋光深度,并通過EDS元素分析檢測加工區(qū)域中的元素分布。

圖1 紅外飛秒激光加工系統(tǒng)示意圖

在燒蝕過程中熔融材料不能及時排出,冷卻和凝固后,在燒蝕孔的內(nèi)壁和底部形成了重鑄層。相關(guān)研究表明,由于SiC陶瓷在激光燒蝕過程中發(fā)生熱分解和氧化反應(yīng),激光燒蝕SiC陶瓷形成的重鑄層主要由SiC、Si和SiO2組成。

分別改變脈沖能量和離焦量,在激光重復(fù)頻率為175kHz、掃描速度4812.5mm/s、掃描間距為2.5μm、掃描次數(shù)為4次的條件下,對SiC陶瓷進(jìn)行了飛秒激光拋光實(shí)驗(yàn)。使用激光掃描共焦顯微鏡觀察拋光表面的三維形態(tài),如圖2、3所示。

圖2 不同離焦量(1kx)拋光后表面的三維形貌(a)-2mm;(b)-1mm;(c)0mm;(d)1mm
圖3 不同離焦量下的元素含量(a)-2mm;(b)-1mm;(c)0mm;(d)1mm

實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,當(dāng)脈沖能量為35μJ時,拋光表面質(zhì)量最好,平均表面粗糙度最低,Ra=0.664μm。隨著脈沖能量的持續(xù)增加,拋光表面出現(xiàn)剝落和裂紋,表面質(zhì)量惡化,表面粗糙度值呈上升趨勢。剝落和裂紋現(xiàn)象是由激光和材料的強(qiáng)烈燒蝕引起的。

在零散焦的情況下,獲得最低平均表面粗糙度Ra=0.652μm,最大平均拋光深度4.874μm。同時,在拋光表面上產(chǎn)生周期性納米波紋結(jié)構(gòu),并且當(dāng)散焦量為3mm時,在拋光的表面上產(chǎn)生的周期性納米漣漪結(jié)構(gòu)的尺寸顯著更小。

相關(guān)工作研究了飛秒激光與SiC陶瓷的相互作用機(jī)理以及脈沖能量和離焦量對飛秒激光拋光SiC陶瓷表面形貌、表面粗糙度、拋光深度和氧化程度的影響。得到了飛秒激光加工SiC陶瓷過程中相對最優(yōu)的加工參數(shù)選擇,對于飛秒激光拋光SiC陶瓷的工藝改進(jìn)和技術(shù)進(jìn)步具有重要意義。

參考文獻(xiàn):

  1. Xuanhua Zhang, Xiaoxiao Chen, Tao Chen, Guiying Ma, etc. Influence of Pulse Energy and Defocus Amount on the Mechanism and Surface Characteristics of Femtosecond Laser Polishing of SiC Ceramics, Micromachines 2022, 13(7), 1118, https://doi.org/10.3390/mi13071118
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